Gäller Passat bränsle common rail trycksensor 06E906051K

1. Metod för att bilda en trycksensor, innefattande:

Tillhandahållande av ett halvledarsubstrat, varvid ett första dielektriskt mellanskiktsskikt, ett första dielektriskt mellanskiktsskikt och ett andra dielektriskt mellanskiktsskikt är utformade på halvledarsubstratet.

En undre elektrodplatta i det första dielektriska mellanskiktsskiktet, en första ömsesidig elektrod placerad på samma skikt som den undre elektrodplattan och på avstånd från varandra.

Förbindande lager;

Bildande av ett offerlager ovanför den nedre polära plattan;

bilda en övre elektrodplatta på det första dielektriska mellanskiktet, det första sammankopplingsskiktet och offerskiktet;

Efter formning av offerskiktet och innan formning av den övre plattan, i det första sammankopplingsskiktet

att bilda ett anslutningsspår och fylla anslutningsspåret med den övre plattan för att elektriskt anslutas till det första sammankopplingsskiktet;Eller,

Efter formning av den övre elektrodplattan bildas anslutningsspår i den övre elektrodplattan och det första sammankopplingsskiktet, som

bilda ett ledande skikt som förbinder den övre elektrodplattan och det första sammankopplingsskiktet i anslutningsspåret;

Efter elektrisk anslutning av den övre plattan och det första sammankopplingsskiktet, avlägsnande av offerskiktet för att bilda en kavitet.

2. Förfarande för att bilda en trycksensor enligt krav 1, kännetecknat därav, att i det första lagret

Metoden för att bilda offerskiktet på mellanskiktets dielektriska skikt innefattar följande steg:

avsättning av ett offermaterialskikt på det första dielektriska mellanskiktsskiktet;

Mönster av offermateriallagret för att bilda ett offerlager.

3. Förfarande för utformning av trycksensorn enligt krav 2, varvid fotolitografi och gravering används.

Offermaterialskiktet mönstras genom etsningsprocess.

4. Förfarande för att bilda en trycksensor enligt krav 3, kännetecknat av att offerskiktet

Materialet är amorft kol eller germanium.

5. Metod för att bilda en trycksensor enligt krav 4, kännetecknad av att offerskiktet

Materialet är amorft kol;

Etsgaser som används i processen för etsning av offermaterialskiktet inkluderar O2, CO, N2 och Ar;

Parametrarna i processen för etsning av offermaterialskiktet är: flödesområdet för O2 är 18 SCCM ~ 22 SCCM, och flödeshastigheten för CO är 10%.

Flödeshastigheten sträcker sig från 90 SCCM till 110 SCCM, flödeshastigheten för N2 sträcker sig från 90 SCCM till 110 SCCM, och flödeshastigheten för Ar.

Området är 90 SCCM ~ 110 SCCM, tryckområdet är 90 mtor ~ 110 mtor, och förspänningen är

540w–660w.